Односторонняя полировка высокой чистоты небольшой квадратный кусок SEM Кремниевая пластина SiO2 одиночный кислород многоразмерный размер пятна можно под заказ

SiO2 monooxygen (односторонняя полировка)

Особенности:Высокочистая Кремниевая si Одиночная кристаллическая подложка, N/P Тип опционально, сопротивление 0,0001-100 Ом, опционально

Роста режим:Straight без застежки

С украшением в виде кристаллов направленности:[111]/[100]

Это действительно плоский экран:<1 микрон (измеренная общая страница)

Область применения:1. PVD/CVD покрытие в качестве подложки

2. Используется как XRD (рентгеновский Дифракционный анализ), SEM (сканирующий электронный микроскоп), FTIR инфракрасный, флуоресцентный спектральный анализ тестовая подложка, AFM (микроскоп атомной силы)

3. Synchrotron радиационный тест-носитель образца

4. Молекулярный пучок эпитаксиального роста подложки

5. Процесс полупроводниковой литографии и т. д.

Классификация:SiO2 monooxygen 5 × 5 мм; SiO2 monooxygen 10 × 10 мм;

SiO2 monooxy 15 × 15 мм; SiO2 monooxygen 10 × 20 мм;

SiO2 monooxygen 20 × 20 мм; SiO2 monooxygen 10 × 4 мм.

Примечание:Другие размеры могут быть настроены.